第847章 【新城微电子半导体】（2 / 2）

        现在大基金的前都在落地到实处，比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱，而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿，几乎提供了花不完的钱。

        而抬积电提出来用水作介质，就跳过157nm，变成143nm了。

        方鸿与他结束通话之后，顺手便在电脑上打开了行情软件，然后输入了一个代码瞅了眼，其所对应的公司叫“新微半导体”，这家企业是群星系旗下的子公司，也是此前方鸿拟定的20家新上市的子公司之一。

        该公司就在今天正式登陆A股市场，走的是借壳上市的路子，正常IPO肯定是没这么快，新微半导体公司目前都是处于烧钱阶段，没有任何的盈利，也只能走借壳上市的路子。

        ……

        尼康、佳能很傲慢，不理抬积电，那时候ASML只是个小厂，也敢于一试，最后就搏出了ASML的未来，研发出了ArFi浸润式光刻机，然后打得尼康、佳能一败涂地，成就了今天的行业地位。

        可以确定的，整合国内光刻机产业链的新微半导体，其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平，现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上，由该公司对光刻机展开全力攻克任务。

        而第六代EUV光刻机，采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了，这种光刻机目前全世界都没有搞出来，ASML也一样，针对的事7纳米制程级别的芯片制造，而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。

        国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的，可是今年上半年以来，大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”，他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。

        说起来，曾经业界光刻机技术停止了很多年，尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm，但好多年没成功。

        光线在经过水时，会有折射，所以虽然ArFi光刻机采用193nm波长光源，经水折射时，等效于134nm波长的光源，所以这种光刻机，叫做浸润式光刻机。

        却说此刻，方鸿与秦丰的视讯连线商讨展开了半个多小时左右便就此结束，星宇科技目前的开发任务也很繁重，手底下不但有拳头产品STAR系列智能手机的全国产化之路，现在还有新能源车这一块也在发展。

        在方鸿制定的国产半导体全产业链体系中，这家企业负责的便是光刻机这一块的设备厂商，光刻机对于半导体行业的重要性无需多言了，可见其身肩重担，被寄予厚望。

        方鸿瞅了眼新微半导体的分时盘面，复牌首日不设涨跌幅限制，盘中股价最高冲到了59元价位，涨幅超+114%，市值规模飙升到了1600亿之巨，直接跃升成为当前半导体板块市值第一股。

        此次借壳上市，新微半导体向市场要了105个亿，估值700亿元，在半导体行业板块上来就给到700亿的估值是非常罕见的，此前就没有过。

        ASML公司总裁彼得在媒体上公开声称：华国企业自研光刻机的行为，是在破坏全球芯片产业链……

        可他们并没有意识到，这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系，但实际上都是方鸿派过去的人，而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。

        目前在攻克的ArF光刻机也已经快要突破了，并且正在全力死磕ArFi光刻机，同时对于极紫外光刻EUV的研究也有团队在展开论证。

        各代的光刻机开发团队并行展开，同时也相互交流。

        现在的新微半导体是要钱有人给钱，要人才方鸿这边到处给他找，而且因为老美对技术、元件等进行了封锁，在很大程度上非但没有击垮，反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。

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